Intel monta primeira máquina para fabricar chips com menos de 2 nanômetros

Máquina baseada na tecnologia EUV High NA deve ser finalizada até o final de 2024; Intel quer produzir primeiros chips com menos de 2 nm em 2025

Emerson Alecrim
Por
A máquina Twinscan Exe:5000 EUV High NA montada na Intel (imagem: divulgação/Intel)
A máquina Twinscan Exe:5000 EUV High NA montada na Intel (imagem: divulgação/Intel)
Resumo
  • A Intel adotará a tecnologia de Litografia Ultravioleta Extrema de Alta Abertura Numérica (EUV High NA), tornando-se a primeira empresa a implementar essa inovação, com o objetivo de produzir chips de menos de 2 nanômetros.
  • O equipamento utilizado, produzido pela holandesa ASML, é a máquina Twinscan Exe:5000 EUV High NA, que pesa aproximadamente 150 toneladas e tem um tamanho maior que um ônibus de dois andares.
  • A máquina foi instalada na fábrica da Intel em Oregon, nos EUA, e sua operação plena está prevista para começar no final de 2024.

A Intel será a primeira companhia a implementar a Litografia Ultravioleta Extrema de Alta Abertura Numérica (EUV High NA). Esse nome pomposo representa o mais recente esforço da empresa para diminuir os nanômetros (nm) dos seus chips. Com a tecnologia, a Intel produzirá unidades com menos de 2 nm.

Para tanto, foi necessário a aquisição de uma máquina de fabricação de chips da única companhia capaz de fornecer tecnologia de EUV High NA: a holandesa ASML. A primeira fase da montagem do equipamento, realizada nas instalações da Intel em Oregon (EUA), foi concluída recentemente.

Uma máquina de 150 toneladas

Como as imagens de divulgação deixam claro, a máquina é gigantesca. Rob Kelton, da área de comunicações da Intel, destaca que o equipamento é maior do que um ônibus de dois andares e pesa mais do que uma baleia azul, ou seja, cerca de 150 toneladas.

O próximo passo consiste em colocar a Twinscan Exe:5000 EUV High NA (como a máquina da ASML é chamada) em operação. Mas isso só deve acontecer no final do ano.

Twinscan Exe:5000 EUV High NA da Intel só deve entrar em operação em 2025 (imagem: divulgação/Intel)
Twinscan Exe:5000 EUV High NA da Intel só deve entrar em operação em 2025 (imagem: divulgação/Intel)

Quando a máquina estiver pronta para uso, a Intel estará mais próxima de produzir wafers com tecnologia Intel 14A, equivalente a apenas 1,4 nm. É um objetivo audacioso. Uma litografia inferior a 2 nanômetros torna os transistores tão pequenos e próximos uns dos outros que o risco de instabilidade causadas por escape de energia é grande.

A produção de chips com uma litografia tão desafiadora deve seguir parâmetros avançadíssimos de construção, portanto. É aí que a tecnologia EUV High NA ganha sentido.

Funcionários na fábrica da Intel, em Oregon (imagem: divulgação/Intel)
Funcionários na fábrica da Intel, em Oregon (imagem: divulgação/Intel)

O que é EUV High NA?

A litografia EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) já é utilizada pela indústria de semicondutores. Ela se baseia no uso de uma luz com comprimento de onda muito curto para permitir a fabricação de chips com 10 nanômetros ou menos.

Tendo uma abertura numérica maior que o padrão atual, o mecanismo óptico que faz esse trabalho fica ainda mais preciso na captura e direcionamento da luz, permitindo a construção de transistores 1,7x menores que os atuais. Além disso, a estrutura de silício pode abrigar 2,9x mais transistores.

Para chegar a isso, a máquina precisa fazer uma combinação complexa de espelhos para que o feixe de luz atinja o wafer na proporção certa. Essa é uma das razões pelas quais a montagem da máquina é um processo tão demorado.

Mas a expectativa da Intel é a de que esse trabalho seja concluído até o fim de 2024. Em 2025, a companhia pretende fabricar os primeiros chips com tecnologia Intel 18A (de 1,8 nm) e, na sequência, produzir unidades no padrão Intel 14A, ainda que em escala experimental.

Receba mais sobre Intel na sua caixa de entrada

* ao se inscrever você aceita a nossa política de privacidade
Newsletter
Emerson Alecrim

Emerson Alecrim

Repórter

Emerson Alecrim cobre tecnologia desde 2001 e entrou para o Tecnoblog em 2013, se especializando na cobertura de temas como hardware, sistemas operacionais e negócios. Formado em ciência da computação, seguiu carreira em comunicação, sempre mantendo a tecnologia como base. Em 2022, foi reconhecido no Prêmio ESET de Segurança em Informação. Em 2023, foi reconhecido no Prêmio Especialistas, em eletroeletrônicos. Participa do Tecnocast, já passou pelo TechTudo e mantém o site Infowester.

Canal Exclusivo

Relacionados